Аннотация. Для исследования фотохимической реактивности летучих органических соединений в полусельской местности (гора Тай Мо Шань (TMS)) и городской участок (Tsuen Wan (TW)) в Гонконге. Уровни озона (O3.2) и его прекурсоров, а также величины реакционной способности прекурсоров O3 выявили значительные различия в фотохимии на двух участках. Смоделированные пиковые соотношения смешивания гидропероксильных радикалов (HO3) были одинаковыми при TW и TMS (p = 2), в то время как смоделированные соотношения смешивания гидроксильных радикалов (OH) были намного выше при TW (p < 0.05), что свидетельствует о различных процессах циклирования между OH и HO0.05. на двух площадках. Более высокое содержание OH при TW было связано с высоким соотношением смешивания NO, которое смещало баланс HOx (OH + HO2) в сторону OH за счет распространения HO2 и алкилпероксирадикалов (RO2) с NO. В продукции HOx преобладал фотолиз O2 при TMS, но при TW было обнаружено, что фотолиз HCHO и O3 вносят основной вклад. Напротив, радикально-радикальные реакции определяли потери радикалов HOx при ТМС, в то время как при TW было обнаружено, что реакция OH + NO3 доминирует утром, а радикально-радикальные реакции - в полдень. В целом, превращение NO в NO2 с помощью HO2 диктовало производство O2 на двух участках, в то время как разрушение O3 происходило в основном за счет OH + NO.2 реакция при TW, а при TMS, O3 фотолиз и O3 +НО2 реакции были основными механизмами. Более длинная цепь OH при ТМС указывала на то, что больше O3 было произведено для каждого радикала, который образовался на этом сайте.
Линг, З. Х., Х. Го, С. М. Лам, С. М. Сондерс и Т. Ван (2014) Фотохимическая реактивность атмосферы и образование озона на двух объектах в Гонконге: применение основного химического механизма — фотохимической блочной модели, ЖУРНАЛ ГЕОФИЗИЧЕСКИХ ИССЛЕДОВАНИЙ: АТМОСФЕРЫ 119(17):10,567-10,582.
